SEM Mill 作為采用尖端技術(shù)制造的離子束切割 拋光系統(tǒng)，提供可靠、高性能的樣品制備能力，能夠在最短時間內(nèi)解決各類掃描電鏡制樣 困難材料的制樣問題，同時具備緊湊、精確以 及高穩(wěn)定性的優(yōu)點。
離子拋光技術(shù)通常采用惰性氣體 氬，通過將氬氣離子化后，在電場 加速作用下轟擊到樣品表面，利用 動量轉(zhuǎn)移的方式進(jìn)行可控速率條件下，物理濺射轟擊的方式對樣品表面進(jìn)行精細(xì)拋光處理，滿足掃描電 鏡/EBSD等表面敏感分析技術(shù)制樣需求子拋光技術(shù)通常采用惰性氣體 氬，通過將氬氣離子化后，在電場 加速作用下轟擊到樣品表面，利用動量轉(zhuǎn)移的方式進(jìn)行可控速率條件 下，物理濺射轟擊的方式對樣品表 面進(jìn)行精細(xì)拋光處理，滿足掃描電鏡/EBSD等表面敏感分析技術(shù)制樣需求。
? 兩支獨立可調(diào)電磁聚焦離子槍
? 同時具備高能量(快速拋光)和低能量(精細(xì)修復(fù))
? 超寬加速電壓范圍：100eV到10kV，不同加速電壓下， 離子束束斑均保持最細(xì)最優(yōu)束斑狀態(tài)
? 每支離子槍均配備對應(yīng)法拉第杯進(jìn)行離子束直接探測
? 采用可調(diào)節(jié)10英寸觸屏控制系統(tǒng)，人機(jī)界面友好，操作 簡潔
? 配備橫截面切割裝載及定位工具
? 配備磁編碼器，帶有樣品測厚功能，自動匹配最佳拋 光位置，保證最佳的拋光質(zhì)量和效率
? 拋光角度范圍：0°到 +10°連續(xù)可調(diào)
? 具備原位實時觀察及記錄拋光過程功能
? 樣品可360°連續(xù)旋轉(zhuǎn)或搖擺，離子束自動避讓樣品夾
? 可通過時間或溫度自動停止
? 可選液氮冷臺配置，去除熱效應(yīng)對樣品的損傷
? 可選真空或惰性氣體轉(zhuǎn)移裝置，隔絕樣品與水氧接觸
| Model 1061 SEM Mill 技術(shù)規(guī)格 | |
| 離子源 | 兩支TrueFocus電磁聚焦離子源 可變能量范圍100 eV到10 keV ，最大束流 密度可達(dá)10 mA/cm2 拋光角度 0° 到 +10?連續(xù)可調(diào)可 選擇單槍或雙槍工作模式 兩支離子槍能量可獨立調(diào)節(jié) 可選手動或自動馬達(dá)離子槍 離子束束斑大小300μm —5mm連續(xù)可調(diào) |
| 樣品臺 | 樣品尺寸: 橫截面切割：Max 25x10x7mm 平面拋光：32mm直徑 x 25mm 高 360? 旋轉(zhuǎn)且轉(zhuǎn)速可調(diào)，同時樣品臺可搖擺 磁編碼器提供絕對定位精度 |
| 液氮冷臺 | 可選液氮冷臺升級，冷卻時間分為3-5小時 和18小時以上兩種 最低溫度<-170℃~室溫，具備自動程序化控溫設(shè)計 |
| 拋光速率 | 500μm/Hr(Si@10keV) |
| 真空系統(tǒng) | 80L/s分子泵加多級無油隔膜泵 配有寬量程規(guī)，無需清潔 |
| 真空轉(zhuǎn)移 | 可選真空轉(zhuǎn)移或惰性氣體保護(hù)下轉(zhuǎn)移升級 |
| 氣源 | 99.999%高純氬氣，使用壓力 15 psi 配備精確氣體質(zhì)量流量計 |
| 人機(jī)界面 | 10英寸觸屏設(shè)計，可實現(xiàn)配方編程控制 可選遠(yuǎn)程燈光指示器 |
| 電源 | 220/240 VAC, 50/60 Hz, 720 W |
| 尺寸/重量 | 68cm(W)X55cm(H)X 54cm(D)，73kg |
